Film deposition by plasma techniques /

Zapisane w:
Opis bibliograficzny
1. autor: Konuma, Mitsuharu, 1950-
Format: Książka
Język:English
Wydane: Berlin ; New York : Springer-Verlag, c1992.
Seria:Springer series on atoms + plasmas ; 10
Hasła przedmiotowe:
LEADER 01361cam a2200337 a 4500
001 c000281202
003 CARM
005 20080303113834.0
008 920703s1992 gw a b 001 0 eng
019 1 |a 9170747  |5 LACONCORD2021 
020 |a 0387525947 (U.S.) 
020 |a 3540540571 (Berlin : acid-free paper) 
020 |a 0387540571 (New York : acid-free paper) 
020 |a 3540525947 
035 |a (OCoLC)24667826  |5 LACONCORD2021 
040 |a LC  |b eng  |c LC 
050 0 0 |a TK7871.15.F5  |b K58 1991 
082 0 0 |a 621.381/52  |2 20 
100 1 |a Konuma, Mitsuharu,  |d 1950- 
245 1 0 |a Film deposition by plasma techniques /  |c Mitsuharu Konuma. 
260 |a Berlin ;  |a New York :  |b Springer-Verlag,  |c c1992. 
300 |a ix, 224 p. :  |b ill. ;  |c 24 cm. 
440 0 |a Springer series on atoms + plasmas ;  |v 10 
500 |a Based on: Purazuma to seimaku no kiso / Mitsuharu Konuma. Cf. Pref. 
504 |a Includes bibliographical references (p. 216-220) and index. 
650 0 |a Thin films. 
650 0 |a Plasma-enhanced chemical vapor deposition. 
700 1 |a Konuma, Mitsuharu,  |d 1950-.  |t Purazuma to seimaku no kiso. 
852 8 |b CARM  |h A1:AQ08F0  |i C10697  |p 0498439  |f BK 
999 f f |i 15d48544-0054-522a-ace7-cdc4a15472ec  |s bd596805-3a63-5030-aa1e-54de16016c64 
952 f f |p Can circulate  |a CAVAL  |b CAVAL  |c CAVAL  |d CARM 1 Store  |e C10697  |f A1:AQ08F0  |h Other scheme  |i book  |m 0498439